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HMDS真空鍍膜機(jī)

簡要描述:HMDS真空鍍膜機(jī)化學(xué)名叫六甲基二硅胺烷(別名六甲基二硅氮烷),又稱HMDS基片預(yù)處理系統(tǒng),指需在低真空度下進(jìn)行的鍍膜。對箱體內(nèi)預(yù)處理過程的工作溫度、工作壓力、處理時間、處理時保持時間等參數(shù)的控制,可以在硅片、襯底表面完成 HMDS成底膜的工藝。降低了光刻膠的用量,所有工藝都在密閉的環(huán)境中進(jìn)行,沒有HMDS揮發(fā),提高了安全性。主要適用于硅片、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃

  • 產(chǎn)品型號:VCM-210
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2024-11-12
  • 訪  問  量:279

詳細(xì)介紹

品牌GEMTOP/喆圖產(chǎn)地類別國產(chǎn)
應(yīng)用領(lǐng)域化工,生物產(chǎn)業(yè)

用途概述

HMDS真空鍍膜機(jī)化學(xué)名叫六甲基二硅胺烷(別名六甲基二硅氮烷),HMDS真空鍍膜機(jī)又稱HMDS基片預(yù)處理系統(tǒng),指需在低真空度下進(jìn)行的鍍膜。對箱體內(nèi)預(yù)處理過程的工作溫度、工作壓力、處理時間、處理時保持時間等參數(shù)的控制,可以在硅片、襯底表面完成 HMDS成底膜的工藝。降低了光刻膠的用量,所有工藝都在密閉的環(huán)境中進(jìn)行,沒有HMDS揮發(fā),提高了安全性。主要適用于硅片、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料,為基片在涂膠前改善表面活性,增加光刻膠與基底的粘附力的設(shè)備,也可用于晶片其它工藝的清洗,尤其在芯片研發(fā)和生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用更加普及。

產(chǎn)品特點

采用PLC工控自動化系統(tǒng),人機(jī)界面采用觸摸屏,具有可靠性高,操作智能方便。

PLC微電腦PID控制系統(tǒng)具有自動控溫、定時、超溫報警等,彩色觸摸屏顯示,控溫可靠;

智能化觸摸屏控制系統(tǒng),可根據(jù)不同制程條件改變程序、溫度、真空度及每一程序時間;

采用鋼化玻璃觀察窗,監(jiān)測方便,一體成型的硅橡膠門封,確保箱內(nèi)密封性好;

外殼和加熱管均采用不銹鋼材質(zhì),內(nèi)膽不銹鋼,無易燃易爆裝置,無發(fā)塵材料;

以蒸汽的形式涂布到晶片表面,液態(tài)涂布均勻,可一次處理4盒以上的晶片,節(jié)省藥液。

去水烘烤和增粘(疏水)處理一機(jī)完成無需轉(zhuǎn)移,有效規(guī)避HMDS泄露的風(fēng);

HMDS氣體密閉式自動吸取添加設(shè)計,使真空箱密封性好,確保HMDS氣體外漏;

多余的HMDS蒸汽(尾氣)由真空泵抽出,排放到專用廢氣收集管道,確保安全以及環(huán)保。

HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的必要性

HMDS涂到晶片表面后,經(jīng)加溫后可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物,

它可將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?,起著耦合作用,可更好與光刻膠結(jié)合,保證涂膠工藝不影

響光刻效果和顯影。

HMDS本身是表面改性,不會涂在圓片表面,HMDS上面涂膠不影響HMDS的處理效果。

HMDS處理后需要冷卻后涂膠,建議4小時內(nèi)完成涂膠。

HMDS預(yù)處理程序

HMDS(六甲基二硅胺)是黃光區(qū)最毒的東西,預(yù)處理程序為:打開

真空泵抽真空,待腔內(nèi)真空度達(dá)到某一高真空度后,開始充入氮氣,充到一定低真

空度后,再次進(jìn)行抽真空、充入氮氣的過程,到達(dá)設(shè)定的充入氮氣次數(shù)后,開始保

持一段時間,使硅片充分受熱,減少硅片表面的水分。然后再次開始抽真空,充入

通過氮氣的HMDS氣體,在到達(dá)設(shè)定時間后,停止充入HMDS藥液,進(jìn)入保持階段,

使硅片充分與HMDS反應(yīng)。當(dāng)達(dá)到設(shè)定的保持時間后,再次開始抽真空。充入氮氣,

完成整個作業(yè)過程。

技術(shù)參數(shù)

型號

VCM-90

VCM-125

VCM-210

電源電壓

AC 220V 50Hz

控制系統(tǒng)

PLC控制

儀表控制

彩色觸摸屏

控溫范圍

RT+10-250℃

溫度分辨率

0.1℃

溫度波動度

±0.5

真空度

≤133pa

內(nèi)膽尺寸

450*450*450

500*550*500

550*550*650

容積

90L

125L

210L

真空泵

選配

選配

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